주성엔지니어링(대표이사 황철주)은 200만불 상당의 알루미늄 산화막의 원자층 증착 장치를 미국의 주력 소자 업체에 3월 14일 수출한다. 이 장비는 기존에 주성이 세계적 기술력을 인정 받았던 CVD(화학 기상 증착)가 아닌 ALD(원자층 증착)라는 신공정 용이어서 관심의 대상이 되고 있고, 특히 개발 후 국내에 판매되기 전에 미국으로 먼저 판매가 되어서 더욱 주목을 받고 있다.

원자층 증착 장치(ALD)는 반도체 소자가 계속 작아지면서 그 요구 사항이 점점 더 어려워지고 고급화함에 따라, 균일하고 순수한 박막을 저온에서 얻기 위하여 최근 새로이 제시된 공법이다. 이 ALD는 향후 0.10 um 급 이하의 소자를 중심으로 대부분의 CVD 장치 시장을 대체할 것으로 여겨 지고 있고, 그만큼 각 장비 업체들이 개발과 기술력의 선점 경쟁을 기울여 온 분야이다. 또한 ALD는 현재 사용되고 있는 CVD 박막의 대체 뿐 아니라 향후에 사용될 대체 박막등을 모두 target으로 하고 있어서 광범위한 market과 life cycle이 전망되어 지는 분야이다.

주성엔지니어링이 지난 2년간 개발을 집중해 온 이 ALD 장치는 그간 해외의 소자 업체들로부터 까다로운 평가 절차를 거쳐 왔고, 이번에 미국의 모 회사로부터 생산용 장치로 선정 받게 되는 개가를 올렸다. 현재 이 장치는 미국 뿐 아니라 일본, 대만, 유럽의 각 major 고객사들로부터 집중적인 관심과 평가를 받고 있다고 관계자는 전했다.

주성은 그간 시장에서 기술력을 인정 받아온 CVD 장치 외에도 작년에 건식 식각 장치 및 LCD 장치의 개발, 올해 ALD 장치의 생산 채택 등 종합 장치 maker로의 발걸음에 한 층 더 박차를 가하고 있다.

한편, 작년에 반도체산업 전반의 침체로 인해 499억의 매출액에 영업적자를 기록한 주성은 내부적 보수적인 목표치로서 매출액은 전년대비 59% 증가한 792억, 영업이익률은 15%를 경영목표로 제시하고 매출의 대부분을 미국, 일본, 대만, 유럽등지로부터 받을 수주로 달성함으로써 올해의 수출비중을 2001년의 50%대에서 75%로 확대함으로 외국고객의 다변화에 박차를 가할 예정이라고 전했다.