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半导体
Semiconductor
应对存储器和非存储器多样化
Application需求的前沿半导体设备
周星工程的半导体ALD设备在超精细DRAM、200层以上的3D NAND 和 10nm 以下的Logic等所有半导体制造工艺中，
即使在极端条件下，也能在低于300°C的温度下实现与底层结构复杂性无关的优质且均匀的薄膜形成。
随着Tech-Migration的加速，半导体行业对在有限空间内精确控制薄膜的技术需求日益增长。
周星工程差异化的ALD核心技术(Core Technology)不仅能先发应对存储器和非存储器的应用需求，
还与将电能转化为光能的显示技术以及将光能转化为电能的太阳能技术相结合。
Why ALD?
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01
Deposition Temperature Free
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02
Particle & Contamination Free
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03
Physical Properties Control
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04
Electrical Properties Control
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05
Interface Control
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06
Step Coverage Control
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07
Selective Deposition
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08
Optical Properties Control
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09
Designable
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10
Grain Condition Control
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Best Quality Film at Nano Scale
Introduction of item
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SDP System (ALD & CVD)
可实现最大化Damage Zero生产效率的全新概念等离子设备
SDP(Space Divided Plasma)系统可在一个腔室内同时沉积5~6片晶圆。
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Guidance Series (ALD & CVD)
支持广泛工艺Window应用的下一代半导体设备
Guidance Series可以调节台阶覆盖率(Step Coverage)比例和薄膜应力(Stress)，
并通过时空分割调控实现多种工艺Recipe，高效满足最新Device对优化条件的需求。 -
Eureka
实现超纯沉积薄膜的下一代半导体设备
Eureka 是一款Ep(Epitaxial)设备，通过提升沉积速度，最大化生产效率。