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주성, CVD 장비에 이어 Etcher 장비도 출하
2002-05-21 / 조회수 580
주성엔지니어링㈜은 최근 Etcher 장비의 개발을 완료하여 국내 반도체 소자업체에 5월22일 첫 출하한다. 현재 세계적으로 기술경쟁력을 인정받고 있는 CVD(화학증착장치)장비에 이어 CVD 장비시장만큼이나 시장이 큰 Etcher시장에 첫 장비를 출하함으로 인해 주성엔지니어링㈜에게는 제2의 전성기를 가져 다 줄 획기적 전환점이 될 수 있다는 데에 큰 의미를 부여할 수 있다.
CVD 장비에 이어 Etcher 장비를 출하 함으로써 주성엔지니어링㈜은 명실상부한 반도체 종합 장치회사(global supplier)로서의 위상을 더 한층 높이는 계기가 되었다. 뿐만 아니라, 내년부터 주성의 Ether제품이 본격적으로 선보일 2003년도의 식각장비의 주성제품군의 세계시장 규모는 15억 달러에 이를 것으로 예상되며, 이는 주성의 기존 주력제품군인 LP CVD 시장의 3배에 이루는 매우 큰 시장 규모 이다. 또한, 이번에 출하되는 식각장비는 차세대 소자 양산을 목표로 하여 개발되어, 향후 0.1micro 미터급 소자의 양산에도 강력한 경쟁력을 확보할 것으로 예상하고 있다. 이 식각장비는 향후 300mm 시장에 대응하기 위하여 200mm와 300mm 공정을 호환 사용 할 수 있도록 개발되어 졌고, 이미 300mm의 공정 평가도 완료 되어, 그 잠재력은 매우 클 것으로 기대된다.
주성엔지니어링이 지난 2년간 심혈을 기울여 개발을 집중해 온 이 식각장비는 이번 출하를 계기로 양산성을 충분히 검증 할 수 있으며, 따라서 향후 0.1micro 미터 이하급 양산 시장에 기술적 우위를 점 할 절호의 기회가 된다. 현재 이 장치는 국내 뿐 아니라 일본, 대만, 중국의 각 major 고객사들로 부터 집중적인 관심과 평가를 받고 있다고 관계자는 전했다